2dsemiconductors kish-graphite說明書
Kish 石墨已在實驗室使用熔融鐵碳化物冷卻工藝合成，以實現(xiàn)研究級 Kish 石墨材料。通常 Kish 石墨是不銹鋼工藝的天然副產(chǎn)品，通常從冷卻的鐵表面收集小石墨片。這個過程的目的不是生產(chǎn)石墨，而是專注于生產(chǎn)含碳雜質(zhì)的鐵。因此，基什石墨的純度通常為 75%。
我們開發(fā)了鐵箔冷卻工藝，通過半導(dǎo)體級甲烷和乙烷混合物將碳溶解到厚鐵箔中并仔細(xì)冷卻以產(chǎn)生高質(zhì)量的 kish 石墨片。這些晶體的尺寸從毫米到 5-6 毫米不等，具有高純度（99.99% 或更高）和結(jié)晶度（的 vdW 結(jié)構(gòu)，與 HOPG 相比易于剝落）。
實驗室生長的 Kish 石墨的典型特征
| 樣本量 | 單晶尺寸范圍從 0.1 毫米到 3-5 毫米。每個訂單包含一個*裝滿的 2 毫升瓶，足以長期研究消費 |
| 特性 | 半金屬/狄拉克金屬 |
| 剝落特性 | 很容易 |
| 生產(chǎn)方式 | 脫碳技術(shù) |
